Імпульсне збудження магнетронного розряду
Основний зміст сторінки статті
Анотація
Технології нанесення тонких плівок останнім часом широко застосовують імпульсні режими осадження. Такі режими мають ряд переваг перед традиційним магнетронним осадженням на постійному струмі, а також дозволяють реалізовувати нелінійні ефекти. Але існують певні труднощі при збудженні імпульсного магнетронного розряду, що пов’язані з генерацією вільних носіїв заряду на початковому етапі його розвитку.
Для визначення умов впевненого збудження імпульсного магнетронного розряду без підтримки слабкострумовим фоновим розрядом була створена модель таундсендівського розряду, що виникає на самому початку імпульсного магнетронного розряду та забезпечує його вільними носіями заряду.
В результаті розрахунків були встановлені: 1) напруга, при якій відбувається стабільне збудження самостійного імпульсного магнетронного розряду; 2) діапазон напруг, при яких збудження самостійного імпульсного магнетронного розряду носить нестабільний характер і може призводити до затримки збудження розряду на протязі імпульсу, або взагалі до їх пропусків; 3) напруга, при якій практично неможливо збудити імпульсний магнетронний розряд без сторонніх джерел вільних носіїв заряду.
Бібл. 12, рис. 5.
Блок інформації про статтю
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
Посилання
Bradley, J. W.; Karkari, S. K.; Vetushka, A., "A study of the transient plasma potential in a pulsed bi-polar dc magnetron discharge," Plasma Sources Science and Technology, no. 13, pp. 189-198, 2004. DOI: 10.1088/0963-0252/13/2/001
Welzel, Th..; Dunger, Th..; Kupfer, H..; Richter, F., "A time-resolved Langmuir double-probe method for the investigation of pulsed magnetron discharges," Journal of Applied Physics, vol. 96, no. 12, pp. 6994-7001, 2004. DOI: 10.1063/1.1808481
Kuzmichev, Anatoly; Sidorenko, Sergey; Steffen, Hartmut; Hippler, Rainer; Kulikovsky, Valery, "Investigation of a pulsed magnetron sputtering discharge with a vacuum pentode modulator power supply," Vacuum, vol. 72, no. 1, pp. 59-69, 2004. DOI: 10.1016/S0042-207X(03)00100-3
Denbnoveckij, S. V.; Hippler, R.; Kuzmichev, A. I.; Kulikovskij, V. Ju., «Zapazdyvanie vozniknovenija razrjada v impul'snyh magnetronnyh raspylitel'nyh ustrojstvah [Delay in the beginnings of a discharge in pulsed magnetron sputtering devices],» Electronics and communications, vol. 8, no. 2, pp. 195-198, 2000.
Kuzmichev, A. I.; Kulikovskij, V. Ju.; Sidorenko, S. B., «Dinamicheskie harakteristiki impul'snoj magnetronnoj raspylitel'noj sistemy [Dynamic characteristics of the pulsed magnetron sputtering system],» Izv. AN (Moskva). Ser. Fizicheskaja, vol. 64, no. 7, pp. 1317-1321, 2000.
A. Kuzmichev, Magnetronnye raspylitel'nye sistemy [Magnetron sputtering systems], vol. 1, Kiev: Avers, 2008. ISBN 966-8934-07-5
Kolev, Ivan; Bogaerts, Annemie; Gijbels, Renaat, "Influence of electron recapture by the cathode upon the discharge characteristics in dc planar magnetrons," Physical Review E, vol. 72, no. 056402, pp. 1-11, 2005. DOI: 10.1103/PhysRevE.72.056402
Kouznetsov, Vladimir; Macak, Karol; Schneider, Jochen M.; Helmersson, Ulf; Petrov, Ivan, "A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities," Surface and Coatings Technology, vol. 122, no. 2-3, pp. 290-293, 1999. DOI: 10.1016/S0257-8972(99)00292-3
Kuzmichev, A. I.; Melnyk, Yu. I.; Kulikovsky, V. Yu.; Bohac, P.; Jastrabik, L., "International Conference on Phenomena in Ionized Gases (26th)," in Characteristics of pulse magnetron discharge with power supply from a capacitor energy storage, Greifswald, 2003.
Macak, Karol; Kouznetsov, Vladimir; Schneider, Jochen; Helmersson, Ulf, "Ionized sputter deposition using an extremely high plasma density pulsed magnetron discharge," Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, vol. 18, no. 4, pp. 1533-1537, 2000. DOI: 10.1116/1.582380
J. S. Colligon, "Energetic condensation: Processes, properties, and products," J. Vac. Sci. Technol. A., vol. 13, no. 3, pp. 1649-1657, 1995.
Romanov, N. V.; Gavrilov, S. E., "Effect of cathode surface state on the characteristics of pulsed hollow-cathode glow discharges," Technical Physics, vol. 44, no. 5, pp. 497-500, 1999.
