Коллимация атомарных потоков индукционных испарителей для создания наноразмерных структур
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
Предложено использовать индукционный испаритель тигельного типа совместно с механическими коллиматорами и модуляторами атомных потоков для создания периодических наноструктур посредством фокусировки атомов матрицей линз стоячей волны лазерного излучения. Предложены оптимальные конструкции механических модуляторов и коллиматоров и рассмотрены варианты их применения для отбора атомов с заданной энергией. Получены алгебраические выражения, описывающие закономерности работы механических коллиматоров и модуляторе я, пригодные для конструирования и моделирования их работы
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Авторы, публикующиеся в данном журнале, соглашаются со следующими условиями:- Авторы сохраняют за собой права на авторство своей работы и предоставляют журналу право первой публикации этой работы на условиях лицензии Creative Commons Attribution License, которая позволяет другим лицам свободно распространять опубликованную работу с обязательной ссылокой на авторов оригинальной работы и оригинальную публикацию в этом журнале.
- Авторы сохраняют право заключать отдельные договора на неэксклюзивное распространение работы в том виде, в котором она была опубликована этим журналом (например, размещать работу в электронном архиве учреждения или публиковать в составе монографии), с условием сохраниения ссылки на оригинальную публикацию в этом журнале.
- Политика журнала разрешает и поощряет размещение авторами в сети Интернет (например в институтском хранилище или на персональном сайте) рукописи работы как до ее подачи в редакцию, так и во время ее редакционной обработки, так как это способствует продуктивной научной дискуссии и положительно сказывается на оперативности и динамике цитирования статьи (см. The Effect of Open Access).
Библиографические ссылки
S. Voronov and L. Tsybulsky, “Usagebeams of neutral atoms in nanotechnologies.Part 2. Atomic lithography”, Electronics andcommunication, no. 3, pp. 13–18, Jan. 2007.
V. . Mishin, V. . Letokhov, and V. . Balykin, JETF Letters, vol. 29. 1979, p. 614.
L. Meissel and R. Glang, Technology of thin films (reference book), vol. 1. M: Owls radio, 1977, p. 664.