Дослідження структурних та оптичних властивостей нанокристалічних плівок SnO2:F
Основний зміст сторінки статті
Анотація
Вивчались структурні та оптичні властивості плівок діоксиду олова, виготовлених за методом пульверизації водно-спиртового розчину чотирихлористого олова з додаванням фтористого амонію. Наведені результати морфології, впливу температури осадження плівок і концентрації фтору на опір, рухливість та концентрацію носіїв заряду, спектри пропускання. Отримані високі значення критерію якості свідчать про оптимальність технологічних режимів пульверизації
Блок інформації про статтю
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
Посилання
P. Mahawela, S. Jeedigunta, S. Vakkalanka, C. Ferekides, and D. Morel, “Transparent high-performance CDSE thin-film solar cells”, Thin Solid Films, vol. 480-481, pp. 466–470, Jun. 2005 DOI:10.1016/j.tsf.2004.11.066
U. Diebold, “The surface science of titanium dioxide”, Surface Science Reports, vol. 48, no. 5-8, pp. 53–229, Jan. 2003 DOI:10.1016/S0167-5729(02)00100-0
F. Gu, “Luminescent properties of Mn2+-doped SnO2 nanoparticles”, Inorganic Chemistry Communications, vol. 6, no. 7, pp. 882–885, Jul. 2003 DOI:10.1016/S1387-7003(03)00135-7
J. Lee, “Application of various surface passivationlayers in solar cells”, Journal of the Korean physicalsociety, vol. 45, no. 2, pp. 558–563, Jan. 2004.
E. Giani and R. Kelly, “A Study of SnO[sub 2] Thin Films Formed by Sputtering and by Anodizing”, Journal of The Electrochemical Society, vol. 121, no. 3, p. 394, Jan. 1974 DOI:10.1149/1.2401823
E. Domashevskaya, S. Ryabtsev, E. Tutov, Y. Yurakov, O. Chuvenkova, and A. Lukin, “Optical properties of SnO2-x nanolayers”, Letters to the Journal of Technical Physics, vol. 32, no. 18, pp. 7–12, 2006.
S. Samson and C. G. Fonstad, “Defect structure and electronic donor levels in stannic oxide crystals”, Journal of Applied Physics, vol. 44, no. 10, pp. 4618–4621, Oct. 1973 DOI:10.1063/1.1662011
A. Suikovskaya, Chemical methods semi-of thin transparent films, Leningrad: Khimiya, 1971, p. 198.
E. Elangovan and K. Ramamurthi, “A study on low cost-high conducting fluorine and antimony-doped tin oxide thin films”, Applied Surface Science, vol. 249, no. 1-4, pp. 183–196, Aug. 2005 DOI:10.1016/j.apsusc.2004.11.074
B. Thangaraju, “Structural and electrical studies on highly conducting spray deposited fluorine and antimony doped SnO2 thin films from SnCl2 precursor”, Thin Solid Films, vol. 402, no. 1-2, pp. 71–78, Jan. 2002 DOI:10.1016/S0040-6090(01)01667-4
S. Shanthi, C. Subramanian, and P. Ramasamy, “Growth and characterization of antimony doped tin oxide thin films”, Journal of Crystal Growth, vol. 197, no. 4, pp. 858–864, Mar. 1999 DOI:10.1016/S0022-0248(98)01066-5
E. Elangovan and K. Ramamurthi, “Optoelectronicproperties of spray deposited SnO2:F thin filmsfor window materials in solar sells”, Journal ofOptoelectronics and Advanced Materials, vol. 5, no. 1, pp. 45–54, Jan. 2003.
C. Geoffroy, G. Campet, F. Menil, J. Portier, J. Salardenne, and G. Couturier, “Optical and Electrical Properties of SnO :F Thin Films Obtained by R.F. Sputtering With Various Targets”, Active and Passive Electronic Components, vol. 14, no. 3, pp. 111–118, Jan. 1991 DOI:10.1155/1991/85965
V. Batavin, Y. Kontsevoy, and Y. Fedorovich, Measurement of semiconductor parameterskovy materials and structures, Moscow: Radio isvyaz, 1985, p. 264.
F. J. Yusta, M. L. Hitchman, and S. H. Shamlian, “CVD preparation and characterization of tin dioxide films for electrochemical applications”, Journal of Materials Chemistry, vol. 7, no. 8, pp. 1421–1427, Jan. 1997 DOI:10.1039/a608525c
