Прецизионное управление параметрами импульсных газоразрядных источников электронов

##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##

PDF
Опубликован: Sep 11, 2013
DOI: https://doi.org/10.20535/2312-1807.2013.18.4.158020
Ключевые слова:
электронно-лучевые технологии, высоковольтный тлеющий разряд, импульсные газоразряд-ные источники электронов, триодные газоразрядные пушки с холодным катодом, импульсный режим работы, управление электронным пучком

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

P. І. Кrаvеz
Национальный технический университет Украины «Киевский политехнический институт имени Игоря Сикорского»
S. B. Тugаi

Аннотация

В статье приводятся результаты компьютерного моделирования двухканальной системы управления триодной электронно-лучевой пушкой высоковольтного тлеющего разряда технологического назначения в импульсном режиме работы.

Для построения адекватной модели были использованы экспериментально полученные параметры реальных устройств, входящих в технологическое оборудование. Полученные в результате параметры системы управления были использованы для создания экспериментального макета и проведены исследования его работы.

Предложенная система управления параметрами электронного пучка технологической триодной газоразрядной пушки высоковольтного тлеющего разряда обеспечила проведение технологического процесса нанесения покрытия из Al2O3 в импульсном режиме с высокими показателями качества и может быть использована для проведения других технологических операций с импульсными газоразрядными источниками электронов.

Библ. 7, рис. 7.

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Как цитировать
Кrаvеz P. І., & Тugаi S. B. (2013). Прецизионное управление параметрами импульсных газоразрядных источников электронов. Электроника и Связь, 18(4), 21–27. https://doi.org/10.20535/2312-1807.2013.18.4.158020
Выпуск
Том 18 № 4 (2013)
Раздел
вакуумная, плазменная и квантовая электроника
Лицензия Creative Commons

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.

Авторы, публикующиеся в данном журнале, соглашаются со следующими условиями:

  1. Авторы сохраняют за собой права на авторство своей работы и предоставляют журналу право первой публикации этой работы на условиях лицензии Creative Commons Attribution License, которая позволяет другим лицам свободно распространять опубликованную работу с обязательной ссылокой на авторов оригинальной работы и оригинальную публикацию в этом журнале.
  2. Авторы сохраняют право заключать отдельные договора на неэксклюзивное распространение работы в том виде, в котором она была опубликована этим журналом (например, размещать работу в электронном архиве учреждения или публиковать в составе монографии), с условием сохраниения ссылки на оригинальную публикацию в этом журнале.
  3. Политика журнала разрешает и поощряет размещение авторами в сети Интернет (например в институтском хранилище или на персональном сайте) рукописи работы как до ее подачи в редакцию, так и во время ее редакционной обработки, так как это способствует продуктивной научной дискуссии и положительно сказывается на оперативности и динамике цитирования статьи (см. The Effect of Open Access).

Библиографические ссылки

Denbnovetsky S.V., Melnyk V.G., Melnyk I.V. (2003), “High voltage glow discharge electron sources and possibilities of its application in industry for realising of different technological operations”. IEEE Transactions on plasma science. Vol. 31, No.5, October, Pp. 987-993.

Ladohyn S.V., Levytskyy N.I., Chernyavskyy V.B., Lapshuk T.V., Shmyhydean V.G., Kravchuk L.A., Gladkov A.S. (2007), “Electron-luchevaya plavka v lytejnom proyzvodstve”. K. "Stal", p. 605. (RUS)

Rykalin N.N., Zuev I.V., Uglov A.A. (1978), “Osnovy electron lychevoy obrabotki materialov”. M. Mashinostroenie, p. 239. (RUS)

Denbnovetsky S.V, Melnik V.I., Melnik I.V., Tugay B.A. (1998), “Investigation of forming of electron beam in glow discharge electron guns with additional electrode”. XVIII-th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, August 17-21, Eindhoven, The Netherlands, Proceedings, Vol.2. Pp. 637-640.

Zavyalov M.A., Kreindel Y.E., Novikov A.A., Shanturin L.P. (1989), “Plasmennie procesi v technologicheskih electronnih pushkah”. M. Atomizdat, P. 256. (RUS)

A.S. Kluev, A.T. Lebedev, S.A. Kluev. (1989), “Naladka sredstv avtomatizacii I avtomaticheskih system regulirovania: Spravochnoe posobie”. Tovarnoe; Pod red. A.S. Klueva. 2-e izd., pererab. I dop. M.: Energoatomizdat, P. 368. (RUS)

Denisenko V.V. (2009), “Komputernoe upravlenie technologicheskim procesom, eksperimentom, oborudovaniem”. M. Goryachaya liniya – Telekom, P. 608. (RUS)