Колімація атомарних потоків індукційних випарників для створення нанорозмірних структур
Основний зміст сторінки статті
Анотація
Запропоновано використовувати індукційний випарник типу тигель разом з механічними коліматорами і модуляторами атомних потоків для створення періодичних наноструктур за допомогою фокусування атомів матрицею лінз стоячої хвилі лазерного випромінювання. Запропоновано оптимальні конструкції механічних модульаторів та коліматорів та розглянуто варіанти їх застосування для відбору атомів із заданою енергією. Отримані алгебраїчні вирази, що описують закономірності роботи механічних коліматорів і модуляторів, придатні для конструювання та моделювання їх роботи
Блок інформації про статтю
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
Посилання
S. Voronov and L. Tsybulsky, “Usagebeams of neutral atoms in nanotechnologies.Part 2. Atomic lithography”, Electronics andcommunication, no. 3, pp. 13–18, Jan. 2007.
V. . Mishin, V. . Letokhov, and V. . Balykin, JETF Letters, vol. 29. 1979, p. 614.
L. Meissel and R. Glang, Technology of thin films (reference book), vol. 1. M: Owls radio, 1977, p. 664.
