Газоразрядный электронно-лучевой испаритель для осаждения наноструктурированных покрытий
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
Рассмотрены возможности использования электронных пушек высоковольтного тлеющего разряда для нанесения покрытий сложного химического состава в контролируемой газовой среде. Для ионизации потока пара высокой концентрации использовался дуговой разряд, зажигаемый над тиглем с испаряемым металлом. Для улучшения адгезии напыляемых покрытий использовалась ионная очистка подложек. Получены зависимости тока вспомогательного дугового разряда от мощности электронного пучка, исследована микроструктура нанесённых покрытий. Проведенные исследования показали высокую эффективность использования электронных пушек высоковольтного тлеющего разряда при нанесении наноструктурированных композитных покрытий
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Авторы, публикующиеся в данном журнале, соглашаются со следующими условиями:- Авторы сохраняют за собой права на авторство своей работы и предоставляют журналу право первой публикации этой работы на условиях лицензии Creative Commons Attribution License, которая позволяет другим лицам свободно распространять опубликованную работу с обязательной ссылокой на авторов оригинальной работы и оригинальную публикацию в этом журнале.
- Авторы сохраняют право заключать отдельные договора на неэксклюзивное распространение работы в том виде, в котором она была опубликована этим журналом (например, размещать работу в электронном архиве учреждения или публиковать в составе монографии), с условием сохраниения ссылки на оригинальную публикацию в этом журнале.
- Политика журнала разрешает и поощряет размещение авторами в сети Интернет (например в институтском хранилище или на персональном сайте) рукописи работы как до ее подачи в редакцию, так и во время ее редакционной обработки, так как это способствует продуктивной научной дискуссии и положительно сказывается на оперативности и динамике цитирования статьи (см. The Effect of Open Access).
Библиографические ссылки
Z. Schiller, U. Geisig, and Z. Panzer, Electron Beam Technology, Moscow: Energy, 1980, p. 528.
K. Goedicke, B. Scheffel, and S. Schiller, “Plasmaactivated high-rate electron beam evaporationusing a spotless cathodic”, Surface coatingand technology, no. 68/69, pp. 799–803, 1994
S. Denbnovetsky, V. Melnik, I. Melnik, and B. Tugai, “Development and application of gas-discharge electron-beam evaporators withcold cathode”, in VIII Internationalscientific and technical conference "Hightechnologies in Russian industry”, pp. 221–225.
M. Zavyalov, Y. Kreindel, A. Novikov, and L. Shanturin, Moscow: Atomizdat, 1989, p. 256.
