Моделирование молекулярно-лучевого осаждения при испарении из тигля
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
В рамках модели молекулярного массопереноса при испарении с горизонтальной поверхности расплава и стенок цилиндрического тигельного источника аналитически определены граничные условия испарения с поверхностей тигля и получены аналитические зависимости распределения парциальных составляющих парового потока в пространстве его распространения и параметры осаждаемых плёнок, с учётом влияния конструкционных параметров тигля и характера движения подложки
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Авторы, публикующиеся в данном журнале, соглашаются со следующими условиями:- Авторы сохраняют за собой права на авторство своей работы и предоставляют журналу право первой публикации этой работы на условиях лицензии Creative Commons Attribution License, которая позволяет другим лицам свободно распространять опубликованную работу с обязательной ссылокой на авторов оригинальной работы и оригинальную публикацию в этом журнале.
- Авторы сохраняют право заключать отдельные договора на неэксклюзивное распространение работы в том виде, в котором она была опубликована этим журналом (например, размещать работу в электронном архиве учреждения или публиковать в составе монографии), с условием сохраниения ссылки на оригинальную публикацию в этом журнале.
- Политика журнала разрешает и поощряет размещение авторами в сети Интернет (например в институтском хранилище или на персональном сайте) рукописи работы как до ее подачи в редакцию, так и во время ее редакционной обработки, так как это способствует продуктивной научной дискуссии и положительно сказывается на оперативности и динамике цитирования статьи (см. The Effect of Open Access).
Библиографические ссылки
S. Voronov and L. Tsybulsky, “Usedbeams of neutral atoms in nanotechnologylogy. Part 2. Atomic lithography”, Elektronics and communications, no. 3, pp. 13–18, 2007.
A. Kuzmichev and L. Tsybulsky, “Simulation of film deposition during thermal vacuum evaporation from a crucible”, Electronika and connection, no. 2, pp. 78–82, 2009.
D. Smith, Thin-Film Deposition: Principles and Practice, Singapore: McGraw-Hill Co, 1997, p. 616.
