Моделювання молекулярно-променевого осадження при випаровуванні з тиглю
Основний зміст сторінки статті
Анотація
В рамках моделі молекулярного масопереносу при випаровуванні з горизонтальної поверхні розплаву і стінок циліндричного джерела тигельного аналітично визначені граничні умови випаровування з поверхонь тигля і отримані аналітичні залежності розподілу парціальних складових парового потоку в просторі його поширення і параметри осаджуваних плівок, з урахуванням параметрів впливу рухи підкладки
Блок інформації про статтю
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
Посилання
S. Voronov and L. Tsybulsky, “Usedbeams of neutral atoms in nanotechnologylogy. Part 2. Atomic lithography”, Elektronics and communications, no. 3, pp. 13–18, 2007.
A. Kuzmichev and L. Tsybulsky, “Simulation of film deposition during thermal vacuum evaporation from a crucible”, Electronika and connection, no. 2, pp. 78–82, 2009.
D. Smith, Thin-Film Deposition: Principles and Practice, Singapore: McGraw-Hill Co, 1997, p. 616.
