Исследование структурных и оптических свойств нанокристаллических пленок SnO2:F

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

О.Е. Кудина
С.Л. Хрыпко

Аннотация

Изучались структурные и оптические свойства пленок диоксида олова, изготовленных методом пульверизации водно-спиртового раствора четыреххлористого олова с добавлением фтористого аммония. Представлены результаты морфологии, влияния температуры осаждения пленок и концентрации фтора на сопротивление, подвижность и концентрацию носителей заряда, спектры пропускания. Полученные высокие значения критерия свидетельствуют об оптимальности технологических режимов пульверизации

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Как цитировать
Кудина, О. ., & Хрыпко, С. . (2010). Исследование структурных и оптических свойств нанокристаллических пленок SnO2:F. Электроника и Связь, 15(5), 19–22. https://doi.org/10.20535/2312-1807.2010.58.5.284320
Раздел
Наноструктуры и нанотехнологии в электронике

Библиографические ссылки

P. Mahawela, S. Jeedigunta, S. Vakkalanka, C. Ferekides, and D. Morel, “Transparent high-performance CDSE thin-film solar cells”, Thin Solid Films, vol. 480-481, pp. 466–470, Jun. 2005 DOI:10.1016/j.tsf.2004.11.066

U. Diebold, “The surface science of titanium dioxide”, Surface Science Reports, vol. 48, no. 5-8, pp. 53–229, Jan. 2003 DOI:10.1016/S0167-5729(02)00100-0

F. Gu, “Luminescent properties of Mn2+-doped SnO2 nanoparticles”, Inorganic Chemistry Communications, vol. 6, no. 7, pp. 882–885, Jul. 2003 DOI:10.1016/S1387-7003(03)00135-7

J. Lee, “Application of various surface passivationlayers in solar cells”, Journal of the Korean physicalsociety, vol. 45, no. 2, pp. 558–563, Jan. 2004.

E. Giani and R. Kelly, “A Study of SnO[sub 2] Thin Films Formed by Sputtering and by Anodizing”, Journal of The Electrochemical Society, vol. 121, no. 3, p. 394, Jan. 1974 DOI:10.1149/1.2401823

E. Domashevskaya, S. Ryabtsev, E. Tutov, Y. Yurakov, O. Chuvenkova, and A. Lukin, “Optical properties of SnO2-x nanolayers”, Letters to the Journal of Technical Physics, vol. 32, no. 18, pp. 7–12, 2006.

S. Samson and C. G. Fonstad, “Defect structure and electronic donor levels in stannic oxide crystals”, Journal of Applied Physics, vol. 44, no. 10, pp. 4618–4621, Oct. 1973 DOI:10.1063/1.1662011

A. Suikovskaya, Chemical methods semi-of thin transparent films, Leningrad: Khimiya, 1971, p. 198.

E. Elangovan and K. Ramamurthi, “A study on low cost-high conducting fluorine and antimony-doped tin oxide thin films”, Applied Surface Science, vol. 249, no. 1-4, pp. 183–196, Aug. 2005 DOI:10.1016/j.apsusc.2004.11.074

B. Thangaraju, “Structural and electrical studies on highly conducting spray deposited fluorine and antimony doped SnO2 thin films from SnCl2 precursor”, Thin Solid Films, vol. 402, no. 1-2, pp. 71–78, Jan. 2002 DOI:10.1016/S0040-6090(01)01667-4

S. Shanthi, C. Subramanian, and P. Ramasamy, “Growth and characterization of antimony doped tin oxide thin films”, Journal of Crystal Growth, vol. 197, no. 4, pp. 858–864, Mar. 1999 DOI:10.1016/S0022-0248(98)01066-5

E. Elangovan and K. Ramamurthi, “Optoelectronicproperties of spray deposited SnO2:F thin filmsfor window materials in solar sells”, Journal ofOptoelectronics and Advanced Materials, vol. 5, no. 1, pp. 45–54, Jan. 2003.

C. Geoffroy, G. Campet, F. Menil, J. Portier, J. Salardenne, and G. Couturier, “Optical and Electrical Properties of SnO :F Thin Films Obtained by R.F. Sputtering With Various Targets”, Active and Passive Electronic Components, vol. 14, no. 3, pp. 111–118, Jan. 1991 DOI:10.1155/1991/85965

V. Batavin, Y. Kontsevoy, and Y. Fedorovich, Measurement of semiconductor parameterskovy materials and structures, Moscow: Radio isvyaz, 1985, p. 264.

F. J. Yusta, M. L. Hitchman, and S. H. Shamlian, “CVD preparation and characterization of tin dioxide films for electrochemical applications”, Journal of Materials Chemistry, vol. 7, no. 8, pp. 1421–1427, Jan. 1997 DOI:10.1039/a608525c