Радіаційно-термічна обробка потужних біполярних транзисторів з антіумножітельним шаром

Основний зміст сторінки статті

A. V. Borysov
V. A. Husev
D. H. Murzyn

Анотація

Проведено аналіз та експериментальні дослідження особливостей взаємодії альфа-частинок з напівпровідником для підвищення швидкодії транзисторних структур. Результати експериментальних досліджень показали, що введення в технологічний процес виробництва потужних біполярних транзисторів радіаційно-термічної обробки пластин альфа-частками дозволило забезпечити дворазовий запас по швидкодії.

Блок інформації про статтю

Як цитувати
Borysov, A. V., Husev, V. A., & Murzyn, D. H. (2012). Радіаційно-термічна обробка потужних біполярних транзисторів з антіумножітельним шаром. Електроніка та Зв’язок, 17(5), 5–9. https://doi.org/10.20535/2312-1807.2012.17.5.217938
Розділ
Твердотільна електроніка

Посилання

Vobecky J. Optimization of Power Diode Char- acteristics by Means of Ion Irradiation /

J. Vobecky, P. Hazra, I. Homola // IEEE Trans. On El. Dev. – 1996. – V. 43, № 12. – P. 2283–

Гусев В.А. Радиационно-термическая обра- ботка α-частицами кремниевых эпитакси- альных структур и импульсных диодов на их основе / В.А. Гусев, А.В. Борисов // Электро- ника и связь. – 2000. – Т. 2, № 8. – С. 298– 300.

Блихер А. Физика силовых биполярных и полевых транзисторов / А. Блихер. – Л. : Энергоатомиздат, 1986. – 248 с.