Фоточутливі структури з пористим кремнієм

Основний зміст сторінки статті

T. Yu. Bilyk
S. S. Shkarnikov

Анотація

Були досліджені пластини з шаром пористого кремнію, отримані методом хімічного травлення. З використанням монохроматора були отримані спектральні залежності фоточутливості контакту Al/пористий кремній та порівняні з аналогічною залежністю для контакту Al/c-Si. Аналіз отриманих даних показав, що фоточутливість у випадку з шаром пористого кремнію на  порядок вища та на спектральній залежності спостерігається короткохвильовий «хвіст». Інтегральна фоточутливість контакту росте зі збільшенням тривалості травлення, поки не досягає насичення при часі травлення приблизно в 1,5 хвилини.

Блок інформації про статтю

Як цитувати
Bilyk, T. Y., & Shkarnikov, S. S. (2012). Фоточутливі структури з пористим кремнієм. Електроніка та Зв’язок, 17(4), 11–13. https://doi.org/10.20535/2312-1807.2012.17.4.218984
Розділ
Твердотільна електроніка

Посилання

Беляков Л.В., Горячев Д.Н., Сресели О.М. Фотоответ и электролюминесценция структур кремний-<пористый кремний>-<химически осажденный металл> // ФТП. – 2000 – Т.34. - №11. - С. 1386-1390.

Torres-Costa V., Agulló-Rueda F., Martín- Palma R.J. Martínez-Duart J.M. Porous silicon optical devices for sensing applications // Opt. Mater. – 2005 – 27. – P. 1084—1087.

Jalkanen T., Tuura J., Mäkilä E., Salonen J. Electro-optical porous silicon gas sensor with enhanced selectivity. // Sensors and Actuators, B Chemical. – 2010 - 147 (1). - P. 100-104.

Юзова В.А., Левицкий А.А., Харлашин П.А. Развитие технологии получения и исследования пористого кремния // Журнал Сибирского федерального университета. Техника и технологии. – 2011 – Т.4. - №1. –С. 92-111.

Білик Т.Ю., Шмирєва О.М., Алябушев В.І. Електрофізичні властивості гетероструктур наноструктурований кремній/моно кремній // Электроника и связь, Тематический выпуск

«Проблемы электроники» ч. 2. – 2009. – №4- 5. – С. 59–62.