Електричні властивості шарів наноструктурованого кремнію, отриманого хімічним способом

Основний зміст сторінки статті

Т.Ю. Білик

Анотація

Метою даної роботи є подальше дослідження взаємозв`язку властивостей наноструктурованих шарів з параметрами їх отримання. В роботі досліджена зміна електричних парметрів структур Al– por-Si–Al від часу обробки та за допомогою диференціального аналізу визначені способи переносу заряду в наноструктурованому шарі. Зі зростанням часу травлення зростає кількість нанокристалічних утворень що призводить до зменшення провідності шару та утворення однонаправленого потенціального бар`єру

Блок інформації про статтю

Як цитувати
Білик, Т. . (2010). Електричні властивості шарів наноструктурованого кремнію, отриманого хімічним способом. Електроніка та Зв’язок, 15(3), 6–8. https://doi.org/10.20535/2312-1807.2010.15.3.305790
Розділ
Наноструктури і нанотехнології в електроніці

Посилання

R. Ciach, Y. Dotsenko, V. Naumov, A. Shmyryeva, and P. Smertenko, “Injection technique for the study of solar cell test structures”, Solar Energy Materials and Solar Cells, vol. 76, no. 4, pp. 613–624, Apr. 2003. DOI:10.1016/S0927-0248(02)00271-4

A. I. Luchenko, M. M. Melnichenko, K. V. Svezhentsova, O. M. Shmyryeva, E. A. Dobisz, and L. A. Eldada, “Complex studies of properties of nanostructured silicon”, in SPIE Optics + Photonics, San Diego, California, USA, 2006, p. 632716. DOI:10.1117/12.680668

V. Koval and A. Shmyreva, “Heterostructural transformers based on nanocrystalline silicon”, Radiotechnique, vol. 145, pp. 57–61, 2006.