Моделювання надвисокочастотного генератора плазми

Бічна панель сторінки статті

PDF
Опубліковано: Feb 28, 2018
DOI: https://doi.org/10.20535/2523-4455.2018.23.1.105252
Ключові слова:
надвисокочастотний генератор плазми, 3D моделювання, НВЧ тракт, хвилевід

Основний зміст сторінки статті

Volodymyr Volodymyrovych Perevertailo
Національний технічний університет України "Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського"
https://orcid.org/0000-0001-5706-5946

Анотація

Представлено результати 3D моделювання хвилеводно-резонаторного тракту спільно з газорозрядною камерою, шляхом чого було розраховано геометричні параметри НВЧ генератора в узгодженому режимі з максимальною передачею енергії від джерела НВЧ потужності до області, де буде відбуватись генерація плазми. Розрахунок проводився, виходячи з умови подальшого сумісного використання пристрою з системою магнетронного розпилення і призначений він для активації інертного газу. У даній роботі представлено аналіз складових частин генератора плазми з урахуванням розрахунків, опис схеми роботи системи та принцип роботи НВЧ генератора плазми.

Бібл. 12, рис. 9.

Блок інформації про статтю

Як цитувати
[1]
V. V. Perevertailo, «Моделювання надвисокочастотного генератора плазми», Мікросист., Електрон. та Акуст., т. 23, вип. 1, с. 16–22, Лют 2018.
Номер
Том 23 № 1 (2018)
Розділ
Вакуумна, плазмова та квантова електроніка
Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.

Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:

  1. Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
  2. Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
  3. Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).

Посилання

A. Azarenkov, V. Beresnev and A. Pogrebniak, Struktura i vlastyvosti zahysnyh pokryttiv i modyfikovanyh shariv materialiv [The structure and properties of the protective coating layers and modified materials], Kharkiv: Karazin KNU, 2007, p. 560. ISBN: 978-966-623-476-9

E. Dabyzha, N. Novikov, N. Borуsovа, I. Bondar, V. Dabyzha and A. Zolotukhin, «Suchasni vakuumni texnologiyi oderzhannya pokryttiv [Up-to-date vacuum technology for coatings production],» Suchasna electrometallurgia, no. 4, pp. 34-40, 2005.

«Method magnetronnogo napilennya pokrittіv z іonnym asystuvannyam [Method of magnetron coating deposition with ion assisting],» 2009. [Online]. Available: http://cozap.com.ua/text/9625/index-1.html. [Accessed: 07 December 2015].

B. Lyashenko, V. Mirnenko, L. Golovko and M. Boleyko, «Keruvannya parametramy nanesennya vakuum-plazmovyh pokryttiv z metoyu pidvyshchennya yih harakterystyk mizznosti i plastychnosti [Control of parameters for applying vacuum plasma coatings to improve their strength and ductility characteristics],» Naukovi Visti NTUU "KPI", no. 5, pp. 49-54, 2005.

V. Beresnev, D. Perlov and A. Fedorenko, Ekologichno bezpechne vakuumno-plazmove obladnannya i texnologiyi nanesennya pokryttiv [Sustainable vacuum plasma equipment and coating technology], Kharkiv: KISP, 2010, p. 292.

A. Demchyshyn, Y. Kurapov, A. Goncharov, V. Mychenko, E. Kostin and E. Ternovoy, «Doslidna ionno-plazmova ustanovka dlya nanesennya pokryttiv u vakuumi [Pilot ion-plasma unit for coatings deposition in vacuum],» Problemy spets. metalurhii, no. 4, pp. 41-43, 2001.

O. Volpyan, A. Kuzmichev и A. Samokysh, «Sovremennye opticheskie plenochnye pokrytiya [Up-to-date optical film coatings],» Electronics and communications, vol. 13, no. 5 (46), pp. 5-19, 2008.

A. Kuzmichev, Magnetronnye raspylitel'nye sistemy [Magnetron sputtering systems], vol. 1, Kiev: Avers, 2008. ISBN: 966-8934-07-5

R. Yafarov, Fyzyka SVCh vakuumno-plazmennyh nano-texnologyi [Physics of microwave vacuum-plasma nano-technologies], Moskva: Phizmalit, 2009, p. 216. ISBN: 978-5-9221-1150-8

A. Kuzmichev, V. Perevertailo and A. Mumladze, «SVCh gazorazriadnyi svetilnik na parah sery [Microwave gas-discharge sulfur vapor lamр],» Electronics and communications, vol. 20, no. 5 (20), pp. 15-21, 2015. DOI: 10.20535/2312-1807.2015.20.5.69930

I. Lebedev, Technica i pribory SVCh [MW equipment and devices], Moskva: Vysshaia shkola, 1970, 440 p.

V. Perevertailo, A. Kuzmichev, «Modeluvannia plazmovych djerel shvydkyh neitraliv [Simulation of fast neutrals plasma sources],» in Proc. of 10th theoretical and practical conference Perspektyvni napriamky suchasnoi electroniky, Kyiv, Ukraine, pp. 33-40, 7-8 April 2016.