Генерація надвисокочастотної плазми за допомогою еванесцентних хвиль

Volodymyr Volodymyrovych Perevertailo, Anatoly Ivanovitch Kuzmichev

Анотація


У даній роботі проведено аналіз та порівняння можливих конструктивних особливостей надвисокочастотних генераторів низькотемпературної плазми, які будуються на базі еванесцентних хвиль. У статті розглянуто три підходи, що забезпечують збудження еванесцентної хвилі: збудження за допомогою позамежного хвилеводу; еванесцентна хвиля, що збуджується за допомогою поверхневої хвилі; еванесцентна хвиля, що збуджується поблизу поверхні діелектрика за рахунок ефекту порушення повного внутрішнього відбиття. Представлено результати перших експериментів використання таких генераторів та визначені перспективи їх подальшого застосування для іонно-плазмової технології обробки великих підкладок. На основі проведеного дослідження висунуті пропозиції щодо актуальності майбутніх розробок у даному напрямку. Метою дослідження є проблема забезпечення зони однорідності оброблюваної поверхні твердого тіла великої площі (метри квадратні).

Бібл. 13, рис. 6.


Ключові слова


генерація надвисокочастотної плазми; низькотемпературна плазма; еванесцентні хвилі; надвисокочастотний генератор

Повний текст:

PDF

Посилання


B. Danilin, Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia naneseniia tonkih plenok [Low-temperature plasma application for thin film deposition], Moscow: Energoatomizdat, 1989, p. 328. ISBN 5-283-03939-0

B. Danilin; V.Kireev, Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia travlenia i ochistki materialov [Low-temperature plasma application for etching and cleaning of materials], Moscow: Energoatomizdat, 1987, p. 264.

N. G. Einspruch; D. M. Brown, Plasma processing for VLSI, Orlando: Academic Press, 1984, p. 469.

Y. N. Korkishko, Vvedenie v protsessy integralnykh mikro- i nanotehnologyi. Tom 2: Tehnologicheskie aspekty [Introduction to processes of integral micro- and nanotechnology. Vol. 2. Technological aspects], vol. 2, Moscow: BINOM. Laboratory of knowledge, 2011, p. 252. ISBN 5-9963-0336-6

O. Volpian; A. Kuzmichev; V. Perevertailo, «Bezelektrodnyi activator reaktsionnogo gaza dlia opticheskoi tonkoplenochnoi technologii. [Electrodeless activator of reactive gas for optical thin-film technology],» Nanoingeneria, no. 9, pp. 11-16, 2014.

O. Volpian; A. Kuzmichev, Otritsatelnoe prelomlenie voln. Vvedenie v fiziku I technologiu elektromagnitnyh metamaterialov [Negative refraction of waves. Introduction to the physics and technology of electromagnetic metamaterials], Kyiv: Avers, 2012, p. 360.

O. Volpian; A. Kuzmichev, «Nanorazmernye elektronno-fotonnye ustroistva na osnove poverhnostnyh plazmonnyh poliaritonov. [Nanoscale electron-photon devices based on surface plasmon polaritons],» Electronics and Communications, vol. 16, no. 1, pp. 5-11, 2011.

I. Lebedev, Tehnika i pribory SVCh. Tom 1 [Microwave technique and devices. Vol. 1], Moskow: Vyshaya shkola, 1970, p. 440.

E. F. Abdel; M. Suzuki; Y. Kitamura; H. Shindo, "Large-scaled line plasma production by evanescent microwave in a narrow rectangular waveguide," in 28th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, ICPIG'2007, Prague, Czech Republic, 2007.

E. F. Abdel; S. Fuji; H. Shindo, "Large-scaled line plasma production by evanescent microwave," Plasma Devices and Operations, vol. 17, no. 3, p. 221–228, 2009. DOI: 10.1080/10519990902958029

G. Shanmugavelayutham; R. Ramasamy; T. Fukasawa; H. Kajiyama; T. Shinoda, "Development of uniform line-shaped plasma under long wavelength evanescent microwave (LWEM) for PDP processing," in The 9th Asian Symposium on Information Display, ASID'2006, New Delhi, India, 2006.

Y. Yoshida; H. Ogura, "Compact holey-plate plasma source," Vacuum, vol. 74, no. 3-4, pp. 509-513, June 2004. DOI: 10.1016/j.vacuum.2004.01.022

Emanuel Stockman; James Michael; Alex Fuller; Sohail Zaidi; Richard Miles, "Toward high Q, evanescent coupled microwave controlled combustion," in 47th AIAA Aerospace Sciences Meeting Including The New Horizons Forum and Aerospace Exposition, Orlando, Florida, USA, 2009. DOI: 10.2514/6.2009-491




DOI: https://doi.org/10.20535/2523-4455.2017.22.6.105023

Copyright (c) 2017 Перевертайло В. В., Кузьмичєв А. І.

Creative Commons License
Ця робота ліцензована Creative Commons Attribution 4.0 International License.

ISSN: 2523-4447
e-ISSN: 2523-4455